歡迎來(lái)到泰州巨納新能源有限公司網(wǎng)站！歡迎來(lái)到泰州巨納新能源有限公司網(wǎng)站！
13651969369
當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 二維材料 > 六方氮化硼晶體 > 基于285nm二氧化硅基底的單層氮化硼薄膜
簡(jiǎn)要描述：Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 packProperties of BN film97% coverage with minor holes and organic residuesHigh Crystalline Quali
更新時(shí)間：2024-06-03產(chǎn)品型號(hào)： 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家訪 問(wèn) 量：1947詳細(xì)介紹
Single Layer CVD hexagonal Boron Nitride Film on 285 nm SiO2/Si substrates (p-doped), 1cmx1cm: 4 pack
Properties of BN film
97% coverage with minor holes and organic residues
High Crystalline Quality
The Raman spectrum should peak at ~1369cm-1
產(chǎn)品咨詢
聯(lián)系人：陳谷一
地址：江蘇省泰州市鳳凰西路168號(hào)
郵箱：taizhou@sunano.com.cn
電話：021-56830191掃一掃以下二維碼了解更多信息
銷(xiāo)售微信咨詢
網(wǎng)站二維碼